全quan球qiu工gong控kong內nei存cun領ling導dao品pin牌pai宇yu瞻zhan科ke技ji為wei滿man足zu工gong業ye計ji算suan機ji產chan業ye麵mian對dui嚴yan苛ke環huan境jing的de需xu求qiu，持chi續xu為wei客ke戶hu研yan發fa具ju前qian瞻zhan性xing的de產chan品pin與yu技ji術shu，考kao慮lv日ri益yi受shou汙wu染ran環huan境jing所suo影ying響xiang的de電dian子zi組zu件jian硫liu化hua問wen題ti，宇yu瞻zhan科ke技ji開kai發fa全quan球qiu第di一yi款kuan適shi用yong於yu含han硫liu環huan境jing的de抗kang硫liu化hua係xi列lie內nei存cun，日前已廣受肯定並陸續取得多國專利，全新抗硫化內存不僅能有效解決環境汙染產生的硫化腐蝕現象，提升係統整體使用壽命
，亦能滿足係統在惡劣環境下長時間穩定運作的需求，確保產品可靠性與耐用度。

    內存模塊的隱形殺手-電阻硫化

   不(bu)同(tong)於(yu)一(yi)般(ban)標(biao)準(zhun)型(xing)內(nei)存(cun)模(mo)塊(kuai)相(xiang)對(dui)穩(wen)定(ding)的(de)應(ying)用(yong)環(huan)境(jing)，由(you)於(yu)工(gong)業(ye)計(ji)算(suan)機(ji)常(chang)需(xu)於(yu)高(gao)溫(wen)或(huo)高(gao)汙(wu)染(ran)等(deng)環(huan)境(jing)下(xia)運(yun)作(zuo)，因(yin)此(ci)工(gong)控(kong)內(nei)存(cun)產(chan)品(pin)需(xu)因(yin)應(ying)各(ge)種(zhong)不(bu)同(tong)特(te)殊(shu)的(de)應(ying)用(yong)環(huan)境(jing)予(yu)以(yi)客(ke)製(zhi)化(hua)設(she)計(ji)，宇(yu)瞻(zhan)科(ke)技(ji)藉(ji)由(you)抗(kang)硫(liu)化(hua)技(ji)術(shu)強(qiang)化(hua)內(nei)存(cun)模(mo)塊(kuai)抵(di)抗(kang)高(gao)汙(wu)染(ran)環(huan)境(jing)下(xia)硫(liu)化(hua)腐(fu)蝕(shi)問(wen)題(ti)
，可(ke)大(da)幅(fu)提(ti)升(sheng)工(gong)業(ye)計(ji)算(suan)機(ji)整(zheng)體(ti)係(xi)統(tong)之(zhi)穩(wen)定(ding)性(xing)。高(gao)汙(wu)染(ran)環(huan)境(jing)中(zhong)濃(nong)度(du)超(chao)標(biao)的(de)懸(xuan)浮(fu)微(wei)粒(li)含(han)有(you)大(da)量(liang)硫(liu)化(hua)氣(qi)體(ti)，易(yi)與(yu)電(dian)阻(zu)中(zhong)作(zuo)為(wei)導(dao)體(ti)的(de)電(dian)極(ji)層(ceng)的(de)銀(yin)材(cai)料(liao)化(hua)合(he)產(chan)生(sheng)絕(jue)緣(yuan)體(ti)硫(liu)化(hua)銀(yin)，導(dao)致(zhi)電(dian)阻(zu)阻(zu)值(zhi)增(zeng)加(jia)，甚(shen)至(zhi)形(xing)成(cheng)開(kai)路(lu)而(er)失(shi)效(xiao)，尤(you)以(yi)汽(qi)車(che)電(dian)子(zi)、基(ji)地(di)台(tai)通(tong)訊(xun)等(deng)設(she)備(bei)因(yin)常(chang)暴(bao)露(lu)於(yu)汙(wu)染(ran)大(da)氣(qi)中(zhong)
，出(chu)現(xian)硫(liu)化(hua)腐(fu)蝕(shi)現(xian)象(xiang)影(ying)響(xiang)更(geng)甚(shen)
，宇(yu)瞻(zhan)科(ke)技(ji)全(quan)新(xin)抗(kang)硫(liu)化(hua)內(nei)存(cun)模(mo)塊(kuai)絕(jue)佳(jia)的(de)抗(kang)硫(liu)化(hua)特(te)色(se)，有(you)效(xiao)解(jie)決(jue)電(dian)阻(zu)硫(liu)化(hua)所(suo)產(chan)生(sheng)的(de)產(chan)品(pin)可(ke)靠(kao)度(du)與(yu)耐(nai)用(yong)度(du)問(wen)題(ti)。

    抗硫化技術與寬溫支持，解決高溫加速電阻硫化問題

    工(gong)業(ye)計(ji)算(suan)機(ji)長(chang)期(qi)曝(pu)露(lu)於(yu)高(gao)溫(wen)及(ji)高(gao)濃(nong)度(du)的(de)硫(liu)化(hua)物(wu)氣(qi)體(ti)中(zhong)，高(gao)溫(wen)會(hui)加(jia)速(su)電(dian)阻(zu)硫(liu)化(hua)的(de)形(xing)成(cheng)，而(er)硫(liu)化(hua)速(su)度(du)快(kuai)會(hui)縮(suo)短(duan)產(chan)品(pin)使(shi)用(yong)期(qi)限(xian)。宇(yu)瞻(zhan)科(ke)技(ji)開(kai)發(fa)全(quan)球(qiu)第(di)一(yi)款(kuan)工(gong)規(gui)寬(kuan)溫(wen)抗(kang)硫(liu)化(hua)內(nei)存(cun)模(mo)塊(kuai)，結(jie)合(he)抗(kang)硫(liu)化(hua)並(bing)支(zhi)持(chi)寬(kuan)溫(wen)，在(zai)高(gao)汙(wu)染(ran)的(de)含(han)硫(liu)環(huan)境(jing)與(yu)嚴(yan)苛(ke)的(de)極(ji)端(duan)氣(qi)候(hou)下(xia)仍(reng)能(neng)穩(wen)定(ding)運(yun)作(zuo)。宇(yu)瞻(zhan)科(ke)技(ji)獨(du)家(jia)專(zhuan)利(li)抗(kang)硫(liu)化(hua)內(nei)存(cun)模(mo)塊(kuai)特(te)別(bie)適(shi)用(yong)於(yu)嵌(qian)入(ru)式(shi)工(gong)業(ye)計(ji)算(suan)機(ji)係(xi)統(tong)
，滿(man)足(zu)IPC產業在嚴苛環境下長時間穩定運作的需求。

    革命性的創新技術應用，未來IPC產業主流規範

   電子產品硫化的問題目前逐漸受到重視，尤其對需要高可靠度與長時間運作的工業計算機產品更加重要
，抗硫化的技術勢必成為未來IPC產(chan)業(ye)的(de)主(zhu)流(liu)規(gui)範(fan)，宇(yu)瞻(zhan)科(ke)技(ji)根(gen)據(ju)抗(kang)硫(liu)化(hua)專(zhuan)利(li)技(ji)術(shu)所(suo)製(zhi)造(zao)的(de)抗(kang)硫(liu)化(hua)內(nei)存(cun)除(chu)有(you)寬(kuan)溫(wen)支(zhi)持(chi)，為(wei)了(le)讓(rang)訊(xun)號(hao)傳(chuan)輸(shu)更(geng)穩(wen)定(ding)，專(zhuan)為(wei)抗(kang)硫(liu)化(hua)內(nei)存(cun)模(mo)塊(kuai)設(she)計(ji)遠(yuan)超(chao)過(guo)一(yi)般(ban)業(ye)界(jie)采(cai)用(yong) 3µ標準的10倍 - 厚度高達30µ的金手指(Gold finger)
，可靠度表現再升級
，為高汙染環境的工業控製係統
、汽車電子
、醫療、國防、網通、戶外基地台，甚至采礦控製係統等設備，帶來強固的技術與多重防護機能
，是在嚴峻環境下運行的工業用係統之最佳解決方案。

宇瞻科技DDR4抗硫化係列內存規格: