集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)設(she)備(bei)從(cong)樣(yang)機(ji)的(de)誕(dan)生(sheng)到(dao)最(zui)終(zhong)上(shang)大(da)生(sheng)產(chan)線(xian)，需(xu)要(yao)一(yi)個(ge)台(tai)階(jie)，即(ji)建(jian)立(li)工(gong)藝(yi)實(shi)驗(yan)線(xian)或(huo)工(gong)藝(yi)引(yin)導(dao)線(xian)，為(wei)設(she)備(bei)廠(chang)商(shang)的(de)產(chan)品(pin)最(zui)終(zhong)進(jin)入(ru)大(da)生(sheng)產(chan)線(xian)提(ti)供(gong)“實戰經驗”。

　　日前

，中微半導體設備(上海)有限公司於在日本舉辦的“SEMICONJapan2007”上宣布
，推出65納米及45納米高端芯片加工設備，而本月11日，由芯碩半導體(中國)有限公司研製的國內首台亞微米級無掩膜(直寫式)光刻機在合肥通過科技成果鑒定，一舉填補國內空白，這兩條消息的相繼宣布，無疑為國產半導體設備產業的發展打了一劑強心針。

　　提高技術鋪平進入大生產線之路

　　國產半導體設備的技術水平和實用化程度正在逐步提高。然而，相對於集成電路製造業，我國半導體設備製造業的發展在生產規模

、研發水平等方麵離達到大生產線的使用要求還有一定的距離。

　　中芯國際集成電路製造有限公司器件研究和對外合作處技術副處長吳漢明博士告訴《中國電子報》記者，國產半導體設備與國際同業相比
，起步晚，因此，國產半導體設備要全麵進入大生產線(Fab)還有相當長的路要走。而如果要改變這種狀況

，其中，最關鍵的是要在觀念上改變過去那種重設備輕工藝
、zhongyingjianqingruanjiandesiweifangshi
，ruguomeiyouxianjindegongyijichu，meiyoulianghaodeshouhoufuwuweiqianti，jishikaifachushebei，yebuhuiyourenlaimai，gengtanbushangshichangqianjing。zheyangdejiaoxunyiqianyouguo
，yinci，bandaotishebeizaiyanzhiguochengzhongbixutongguodashengchangongyideyanzheng，tongshishebeichangshangyeyaotigonglianghaodeshouhoufuwu。

　　zhongkexinfuzongjinglisunyongrenwei
，guochanshebeidejishuyuguowaixianjinshebeiyouyidingchaju
，youqizaishebeidewendingxingjihouxudejishuzhichideng，yanzhengbingbushiduanshijianjiukeyijiejuede，ershichangqideguocheng
，jishudetishengyujishudejiejuedouxuyaoduofangdegongtongnuli。weicizaiguanjianzhuangbeiyanfa
、製造等方麵需要整合國內外各方麵的技術優勢。

　　他ta強qiang調tiao

，國guo產chan半ban導dao體ti設she備bei企qi業ye應ying該gai充chong分fen利li用yong本ben土tu企qi業ye的de地di域yu優you勢shi和he價jia格ge優you勢shi，抓zhua住zhu國guo內nei集ji成cheng電dian路lu產chan業ye高gao速su發fa展zhan的de有you利li時shi機ji
，提ti高gao自zi己ji的de技ji術shu水shui平ping，進jin一yi步bu縮suo小xiao與yu國guo外wai先xian進jin設she備bei的de技ji術shu差cha距ju

，提ti升sheng國guo產chan設she備bei的de市shi場chang競jing爭zheng力li；同時企業應建立起快速反應的市場服務機製，以贏得國內IC製造廠商的青睞。

　　發展國內半導體設備產業，還要重視對外合作。上海微電子裝備有限公司總經理賀榮明在接受《中國電子報》記ji者zhe采cai訪fang時shi表biao示shi，國guo內nei半ban導dao體ti設she備bei產chan業ye要yao發fa展zhan，如ru果guo光guang靠kao設she備bei廠chang商shang自zi己ji埋mai頭tou苦ku幹gan
，不bu與yu外wai界jie交jiao流liu合he作zuo
，那na麼me肯ken定ding步bu履lv維wei艱jian。對dui外wai合he作zuo與yu自zi身shen發fa展zhan要yao結jie合he起qi來lai，辯bian證zheng地di看kan，如ru果guo不bu苦ku練lian內nei功gong，把ba所suo有you的de希xi望wang都dou寄ji托tuo在zai對dui外wai合he作zuo上shang，那na麼me肯ken定ding得de不bu到dao好hao的de合he作zuo
；相(xiang)反(fan)，如(ru)果(guo)隻(zhi)顧(gu)悶(men)頭(tou)拉(la)車(che)，把(ba)門(men)關(guan)死(si)，就(jiu)會(hui)變(bian)成(cheng)封(feng)閉(bi)式(shi)發(fa)展(zhan)。所(suo)以(yi)，國(guo)內(nei)半(ban)導(dao)體(ti)設(she)備(bei)廠(chang)商(shang)隻(zhi)有(you)在(zai)壯(zhuang)大(da)自(zi)己(ji)的(de)同(tong)時(shi)，以(yi)開(kai)放(fang)的(de)心(xin)態(tai)積(ji)極(ji)開(kai)展(zhan)對(dui)外(wai)交(jiao)流(liu)合(he)作(zuo)
，才(cai)會(hui)獲(huo)得(de)合(he)作(zuo)方(fang)的(de)尊(zun)重(zhong)，合(he)作(zuo)才(cai)能(neng)更(geng)有(you)效(xiao)。

　　跨越專利障礙迫在眉睫

　　專利一直是困擾國內企業的難題，無論是IC設(she)計(ji)還(hai)是(shi)半(ban)導(dao)體(ti)設(she)備(bei)產(chan)業(ye)要(yao)想(xiang)持(chi)續(xu)發(fa)展(zhan)，跨(kua)越(yue)專(zhuan)利(li)障(zhang)礙(ai)都(dou)至(zhi)關(guan)重(zhong)要(yao)。國(guo)內(nei)企(qi)業(ye)必(bi)須(xu)進(jin)一(yi)步(bu)進(jin)行(xing)自(zi)主(zhu)知(zhi)識(shi)產(chan)權(quan)的(de)開(kai)發(fa)，不(bu)斷(duan)完(wan)善(shan)提(ti)高(gao)國(guo)產(chan)裝(zhuang)備(bei)設(she)計(ji)
、製造水平
，形成具有自主知識產權的裝備技術。

　　吳漢明解釋說
，國產半導體設備企業麵臨的重大挑戰是自主知識產權和核心專利的保護。

　　企業可以采取一係列的辦法來跨越專利障礙

，例如：與世界一流的設備企業聯合，共同開發新產品新工藝，可以考慮以市場換技術等具體方式；關鍵零部件的國產化也極為重要，應加強與高端用戶的直接合作；lianheguoneidesuoyoudingjianyuanxiaoheyanjiusuo，yinjinguojishangdexianjinjishurencai。yinci

，zaishelishebeixiangmushi，yaochongfenkaolvjishulaiyuan，zhuanlibaohudengwenti，zaikaolvjishunanduda
、yishouguowaizhiyuedeguanjianshebeidetongshi，yaogeijishunanduxiangduixiaoeryouliangdamianguangdeshebeiyizugoudezhongshi，jutideshebeilixiangyaojingguochongfenlunzheng

，qiejicaolvshangma，yihongershang。

　　可喜的是
，國內設備廠商已加強了在這方麵的工作。中微半導體設備（上海）有限公司董事長兼首席執行官尹誌堯介紹說，中微對專利技術和商業機密管理是非常嚴格的
，我們已經研究了曆史上2000多項和我們公司技術產品有關的專利
，包括美國、日本、歐洲和我國台灣的專利，所以我們完全知道目前的專利情況。我們也在美國、韓國和日本等國家和我國台灣地區不斷申請自己的專利
，建立自己專利池。[page_break]

　　國家支持依然關鍵

　　在采訪過程中，業內人士均表示
，除了設備企業自身的努力外
，對於這種戰略性產業
，國家的支持顯得尤為關鍵。

　　由於IC裝備的研發、製zhi造zao和he工gong藝yi驗yan證zheng需xu要yao大da量liang資zi金jin和he技ji術shu支zhi持chi
，因yin此ci政zheng府fu應ying該gai站zhan在zai國guo家jia戰zhan略lve的de高gao度du加jia大da對dui集ji成cheng電dian路lu製zhi造zao裝zhuang備bei的de支zhi持chi力li度du。孫sun勇yong告gao訴su記ji者zhe，在zai資zi金jin方fang麵mian，國guo家jia應ying在zai設she備bei的de研yan究jiu與yu開kai發fa、設備的生產線驗證、關鍵部件采購等方麵進行大力投入；在政策方麵，國家應在國內大生產線製定國產設備的配置比例，實施優惠待遇，鼓勵和支持國內大生產線購買國產設備。

　　吳漢明也發表了相同的看法，他說，國家的支持可分為政策支持和財政支持兩個方麵
，包括：首台國產設備的優惠政策

，首家用戶的選擇，配套措施的跟進，相關稅收減免和優惠，零部件的進口稅減免，科技研發人員的激勵政策；財政支持方麵
，要做好中央、地方、承擔單位三方麵資金的配套，還要把設備考核

、工藝試驗、應用鼓勵的資金安排好，寧可少安排一兩台設備，也要把資金打足。

　　國guo家jia在zai支zhi持chi國guo產chan半ban導dao體ti設she備bei項xiang目mu時shi，要yao有you所suo為wei有you所suo不bu為wei，要yao集ji中zhong資zi源yuan挑tiao選xuan國guo內nei有you基ji礎chu的de項xiang目mu進jin行xing重zhong點dian支zhi持chi，支zhi持chi力li度du可ke以yi與yu國guo產chan設she備bei應ying用yong前qian景jing掛gua鉤gou。

　　賀(he)榮(rong)明(ming)在(zai)接(jie)受(shou)記(ji)者(zhe)采(cai)訪(fang)時(shi)表(biao)示(shi)，集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)設(she)備(bei)從(cong)樣(yang)機(ji)的(de)誕(dan)生(sheng)到(dao)最(zui)終(zhong)上(shang)大(da)生(sheng)產(chan)線(xian)
，其(qi)中(zhong)要(yao)經(jing)曆(li)很(hen)多(duo)的(de)過(guo)程(cheng)。這(zhe)個(ge)過(guo)程(cheng)需(xu)要(yao)一(yi)些(xie)中(zhong)試(shi)設(she)備(bei)和(he)中(zhong)試(shi)環(huan)境(jing)，用(yong)戶(hu)生(sheng)產(chan)的(de)是(shi)最(zui)終(zhong)產(chan)品(pin)，不(bu)允(yun)許(xu)設(she)備(bei)廠(chang)商(shang)大(da)規(gui)模(mo)地(di)進(jin)行(xing)設(she)備(bei)實(shi)驗(yan)

，因(yin)此(ci)，對(dui)於(yu)設(she)備(bei)廠(chang)商(shang)來(lai)講(jiang)，這(zhe)中(zhong)間(jian)需(xu)要(yao)一(yi)個(ge)台(tai)階(jie)
，即(ji)建(jian)立(li)工(gong)藝(yi)實(shi)驗(yan)線(xian)或(huo)工(gong)藝(yi)引(yin)導(dao)線(xian)
，為(wei)設(she)備(bei)廠(chang)商(shang)的(de)產(chan)品(pin)最(zui)終(zhong)進(jin)入(ru)大(da)生(sheng)產(chan)線(xian)提(ti)供(gong)“實戰經驗”。架起這座橫跨於設備廠商和用戶之間的橋梁，正是行業及政府領導部門要為設備廠商所要創造的環境。

　　新聞背景

　　國內首台亞微米級無掩膜(直寫式)光刻機通過鑒定

　　本報訊1月11日，由芯碩半導體(中國)有限公司研製的國內首台亞微米級無掩膜(直寫式)光刻機在合肥通過科技成果鑒定，專家鑒定組對芯碩公司無掩膜(直寫式)guangkejideyizhipingjiashi，fenbianlvyidadaoyaweimi，xingnengwendingkekao，tianbuleguoneiguangkejizaigailingyudekongbai
，bingqiezaiguojitongleichanpinzhongchuyuxianjinshuiping。

　　該設備擁有30多項技術專利，分辨率達到0.65微(wei)米(mi)以(yi)下(xia)，性(xing)能(neng)穩(wen)定(ding)可(ke)靠(kao)，與(yu)國(guo)際(ji)同(tong)類(lei)產(chan)品(pin)相(xiang)比(bi)，在(zai)兼(jian)顧(gu)了(le)高(gao)產(chan)能(neng)與(yu)高(gao)分(fen)辨(bian)率(lv)的(de)同(tong)時(shi)，還(hai)極(ji)大(da)降(jiang)低(di)了(le)使(shi)用(yong)成(cheng)本(ben)，且(qie)應(ying)用(yong)範(fan)圍(wei)十(shi)分(fen)廣(guang)泛(fan)
，不(bu)僅(jin)可(ke)應(ying)用(yong)於(yu)半(ban)導(dao)體(ti)行(xing)業(ye)
，而(er)且(qie)還(hai)可(ke)廣(guang)泛(fan)應(ying)用(yong)於(yu)生(sheng)物(wu)、醫藥、光電、太陽能電池、新能源及薄膜電路等不同領域。

　　其最大特點在於亞微米級的分辨率、高產能
、操作便捷、運行成本低。據了解，該設備今年7月可實現批量生產，第一批產能將達100台左右
，產品60%以上將出口國外。

　　光刻機是半導體芯片製造業中的最核心設備。目前，我國生產用光刻機全部依賴進口，為此
，光刻機在國家“十一五”發展規劃中被明確定義為重點製造裝備。芯碩公司無掩膜(直寫式)光guang刻ke機ji的de成cheng功gong推tui出chu不bu僅jin打da破po了le中zhong國guo沒mei有you能neng力li生sheng產chan自zi己ji的de亞ya微wei米mi級ji直zhi寫xie式shi光guang刻ke機ji的de局ju麵mian，同tong時shi也ye為wei中zhong國guo半ban導dao體ti設she備bei製zhi造zao技ji術shu的de提ti高gao打da下xia堅jian實shi的de基ji礎chu。(潘峰)

　　中微高端芯片製造產品進入半導體主流設備市場

　　日前，中微公司(AMEC)宣布其具有自主知識產權的65納米及45納米的高端芯片加工設備，正式進入全球半導體主流設備市場。

　　中微的產品包括12英寸的PrimoD-RIE(去耦合反應離子刻蝕)設備及PrimoHPCVD(高壓熱化學沉積)設備，分別應用於關鍵的氧化物等介電質刻蝕和淺槽隔離沉積及前金屬電介質沉積。中微公司的Primo係列設備采用了最新的技術和獨特的反應室設計。這兩種設備獨特的小批量多反應器係統，使其與同類產品相比輸出產率提高了35%以上
，加工每片芯片的成本平均節省35%
，並bing在zai芯xin片pian加jia工gong中zhong有you更geng優you異yi的de性xing能neng。目mu前qian
，中zhong微wei公gong司si的de一yi台tai電dian介jie質zhi刻ke蝕shi設she備bei和he一yi台tai高gao壓ya熱re化hua學xue沉chen積ji設she備bei已yi經jing在zai客ke戶hu的de生sheng產chan線xian上shang進jin行xing試shi用yong。更geng多duo的de設she備bei正zheng準zhun備bei運yun往wang亞ya洲zhou各ge地di區qu先xian進jin的de半ban導dao體ti芯xin片pian生sheng產chan廠chang家jia上shang線xian試shi運yun行xing。