

Juhani Lehto
產品經理
Vaisala
在半導體製造中,沒有什麼比準確度更重要。從芯片製造到集成電路的最終組裝,流程中的每一步都需要精確測量,以獲得高質量、可重複的結果。需要測量的關鍵參數之一是濕度,因為準確維持正確濕度水平對於實現良好的設備性能和最終產品質量至關重要。
保持良好的環境
當dang進jin行xing納na米mi級ji製zhi造zao時shi,即ji使shi是shi微wei小xiao的de偏pian差cha也ye可ke能neng導dao致zhi災zai難nan性xing的de後hou果guo。環huan境jing條tiao件jian需xu要yao進jin行xing精jing確que的de監jian測ce和he維wei護hu,因yin為wei芯xin片pian和he印yin刷shua電dian路lu板ban等deng半ban導dao體ti元yuan件jian極ji易yi受shou到dao水shui分fen的de影ying響xiang。實shi際ji上shang,水shui分fen是shi半ban導dao體ti製zhi造zao流liu程cheng中zhong影ying響xiang最zui大da的de汙wu染ran物wu,預yu估gu表biao明ming,不bu理li想xiang的de濕shi度du條tiao件jian造zao成cheng的de損sun失shi占zhan收shou入ru損sun失shi的de比bi例li高gao達da 25%。
濕度過高會導致腐蝕、電氣短路、yuanqijianzhiliangchayijigenggaodeguzhanglv。shiduguodihuidaozhijingdianjiju,congersunhuaibandaotibiaomianbingxianzhujiangdishengchanchanliang。yinci,jingquedeshidukongzhizhiguanzhongyao,zheshidekekaodechuanganqichengweibibukeshaodetouzi — 這是一項明智的投資,影響遠遠大於其規模或成本。高質量的傳感器和變送器確保設備和環境保持在半導體製造所需的適當範圍內。
半導體製造流程中的測量解決方案
讓我們來看一些濕度管理至關重要的半導體製造流程,以及可以提供幫助的解決方案。
矽晶圓拋光清洗
矽gui晶jing圓yuan拋pao光guang和he清qing洗xi是shi半ban導dao體ti製zhi造zao流liu程cheng中zhong的de關guan鍵jian步bu驟zhou。該gai流liu程cheng涉she及ji高gao濕shi度du和he刺ci激ji性xing化hua學xue物wu質zhi,可ke能neng導dao致zhi傳chuan感gan器qi漂piao移yi,使shi準zhun確que的de測ce量liang變bian得de更geng加jia困kun難nan。
用於這種環境的探頭需要承受高濕度水平和刺激性化學物質暴露。一個好的解決方案是緊湊型溫濕度探頭 HMP9,tashiyikuanjincouxingtantou,juyoufeichangkuaidexiangyingshijian。takeyichengshougaoshidushuiping,bingqiehaijuyouhuaxueqingchugongnengyongyuwuranhouchuanganqiqingjie。duiyushebeizhizaoshang,weisalahaitigongmokuaihuawenshiduchanpin,liru相對濕度和溫度模塊 HMM170,這些產品可以集成到最終產品中。
晶圓光刻機、塗膠顯影機
對矽晶片進行塗膠和顯影的晶圓光刻機是基於激光技術的,因此即使是微小的環境變化也會顯著影響流程質量。環境氣壓、相對濕度和溫度都會影響光刻效果和鏡頭聚焦,因此必須實時監測和補償。在納米級製程中,精確測量和監測這些參數變得更加重要。
適用於這些設備的一個良好的解決方案是模塊化維薩拉 Indigo520,它提供氣壓作為可選的測量參數。溫濕度探頭 HMP3 與 Indigo520 兼容,其結構允許在現場更換傳感器而無需工具,因此成為潔淨室環境的理想選擇。對於需要監測其他諸如 CO2 和露點等參數的工藝流程,可以使用其他型號的探頭。無論您如何選擇,探頭都可以連接到數據處理單元(例如 Indigo520),讓您可以靈活地為具體工藝流程選擇合適的組合。
晶圓切割和探針台
晶jing圓yuan切qie割ge流liu程cheng將jiang單dan個ge芯xin片pian從cong晶jing圓yuan上shang分fen離li出chu來lai,需xu要yao準zhun確que的de濕shi度du測ce量liang來lai保bao護hu產chan品pin和he設she備bei。冷leng凝ning可ke能neng是shi一yi個ge問wen題ti,特te別bie是shi在zai膠jiao帶dai被bei剝bo離li時shi,因yin此ci需xu要yao仔zai細xi監jian測ce露lu點dian。在zai探tan針zhen測ce試shi過guo程cheng中zhong,芯xin片pian會hui承cheng受shou極ji端duan的de溫wen度du變bian化hua以yi測ce試shi集ji成cheng電dian路lu性xing能neng。該gai流liu程cheng要yao求qiu精jing確que控kong製zhi露lu點dian和he濕shi度du,以yi防fang測ce試shi環huan境jing中zhong發fa生sheng冷leng凝ning和he生sheng鏽xiu。
維薩拉提供多種緊湊型產品來監測和控製這些參數。DMT143 小型露點變送器測量範圍廣,從 -70°C 至 +60°C,可用於霜點和露點測量。另一個選件是維薩拉露點變送器 DMT152,它針對超幹燥條件進行優化,可提供低至 –80°C 的霜點測量值,誤差為 +/–2°C。這兩款產品都具有自動校準功能,確保非常長的校準間隔,並且易於集成到 OEM 應用中,如半導體製造或測試設備。
工藝管線氣體質量
半導體製造中使用的潔淨室依賴於氮氣和氬氣等高質量、非fei反fan應ying性xing工gong藝yi氣qi體ti。確que保bao這zhe些xie氣qi體ti的de幹gan燥zao性xing對dui於yu維wei持chi工gong藝yi環huan境jing的de純chun度du和he避bi免mian敏min感gan製zhi造zao階jie段duan的de潛qian在zai汙wu染ran至zhi關guan重zhong要yao。需xu要yao監jian測ce工gong藝yi氣qi體ti管guan線xian中zhong的de濕shi度du水shui平ping,以yi確que保bao準zhun確que的de測ce量liang結jie果guo。最zui好hao在zai管guan線xian中zhong使shi用yong拋pao光guang不bu鏽xiu鋼gang管guan,因yin為wei這zhe有you助zhu於yu確que保bao獲huo得de準zhun確que、無汙染的讀數。
維薩拉 DRYCAP® 傳(chuan)感(gan)器(qi)非(fei)常(chang)適(shi)合(he)監(jian)測(ce)氣(qi)體(ti)幹(gan)燥(zao)度(du),因(yin)為(wei)它(ta)們(men)具(ju)有(you)極(ji)快(kuai)的(de)響(xiang)應(ying)時(shi)間(jian),可(ke)節(jie)省(sheng)昂(ang)貴(gui)的(de)氣(qi)體(ti)並(bing)在(zai)故(gu)障(zhang)情(qing)況(kuang)下(xia)保(bao)護(hu)流(liu)程(cheng)。它(ta)們(men)還(hai)可(ke)以(yi)自(zi)動(dong)校(xiao)準(zhun)以(yi)實(shi)現(xian)良(liang)好(hao)的(de)長(chang)期(qi)穩(wen)定(ding)性(xing)。維薩拉露點變送器 DMT152 是這種應用的合適選擇,能夠提供實時、高質量的測量結果。DMT152 yingzhijieanzhuangzaiqiliuzhong,yiquebaohuoqujuyoudaibiaoxingdeqitiyangben,bingshiyongzhuixingluowenlaifangzhixielou。weisalacaiyangshiyoupaoguangbuxiugangzhicheng,quebaoshixianzhunque、高質量的測量。
濕度控製的重要性
shidukongzhiyouzhuyuyanchangbandaotizhizaoshebeideshiyongshoumingbingbaochizuizhongchanpinzhiliang。tongguozaizhenggeshengchanguochengzhongshiyonggaozhiliangdechuanganqihebiansongqilaijiancehekongzhishidushuiping,zhizaoshangkeyibaohuqiyunyingmianshouyushiduxiangguandewentiyingxiang,jiangdichengbenbingjinkenengtigaochanliang。
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Semiconductor wafer and microelectronics fabrication is a demanding process with little room for mistakes. The industry depends on high-performing monitoring and measurement instrumentation for precise chemical compositions and atmospheric conditions.
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